本标准规定了采用电感耦合等离子体原子发射光谱(ICP-AES)法测定半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的方法。
本标准适用于半导体化学机械抛光(CMP)中抛光液用的各种硅溶胶。
标准编号:JC/T 2133-2012
标准名称:半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法
英文名称:Determination of impurities in silica sol for polishing solution in semiconductor industry—Inductively coupled plasma atomic emission...